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74 （2）工件磁化過(guò)程中,短少平面方向與磁力線筆直時(shí)發(fā)作的漏磁場(chǎng)最強(qiáng),施加磁粉后構(gòu)成的磁痕明顯,跟著其夾角的增大,漏磁場(chǎng)強(qiáng)度隨之削弱,因此僅一個(gè)方向磁化會(huì)構(gòu)成漏檢。一同,磁極端面與受檢表面接觸不良時(shí),將發(fā)作很大漏磁場(chǎng),保證不了受檢表面和近表面滿足的磁場(chǎng)強(qiáng)度,然后下降查看靈敏度。所以本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)矩穿插磁軛四個(gè)磁極端面與受檢表面之間最大空位不跨過(guò)1.5㎜，最大行走速度不跨過(guò)4m/min。 28.3.3 磁懸液的施加應(yīng)符合下列規(guī)矩： a) 磁懸液濃度應(yīng)符合27.3.3的規(guī)矩。 b) 受檢表面先被磁懸液超卓地濕潤(rùn)后，才可施加磁懸液。 c) 磁懸液的施加可選用噴、澆方法，不行選用刷涂法。不管選用哪種方法，均不應(yīng)使查看面上磁懸液的流速過(guò)快。 d) 磁懸液必須在通電時(shí)間內(nèi)施加結(jié)束，通電時(shí)間宜為1～3s。為保證磁化作用應(yīng)起碼重復(fù)磁化兩次，停施磁懸液起碼1s后才可連續(xù)磁化。已構(gòu)成的磁痕不得被活動(dòng)著的磁懸液所損壞。 磁懸液對(duì)受檢表面的濕潤(rùn)程度、磁懸液的施加方法與機(jī)遇均對(duì)磁粉查看質(zhì)量影響很大。因此，本標(biāo)準(zhǔn)保留了原標(biāo)準(zhǔn)此有些的規(guī)矩。對(duì)熒光磁懸液的施加次第應(yīng)自上而下進(jìn)行，以防止查詢布景受污染。 28.3.4 磁痕的查詢 磁痕的查詢應(yīng)在磁痕構(gòu)成后立刻進(jìn)行。 a) 非熒光磁粉查看時(shí)，磁痕的查詢應(yīng)在可見(jiàn)光下進(jìn)行，工件受檢表面處可見(jiàn)光照度應(yīng)不小于1000lx；當(dāng)現(xiàn)場(chǎng)選用便攜式設(shè)備查看，因?yàn)闂l件所限無(wú)法滿足時(shí)，可見(jiàn)光照度可以恰當(dāng)下降，但不得低于500lx。 熒光磁粉查看時(shí)，黑光燈的輻照度和波長(zhǎng)應(yīng)滿足27.1.3的懇求。磁痕的查詢應(yīng)在較暗的環(huán)境里進(jìn)行，其可見(jiàn)光照度應(yīng)不大于20lx。 b) 當(dāng)辯認(rèn)纖細(xì)短少磁痕時(shí)，運(yùn)用5～10倍放大鏡進(jìn)行查詢。 磁痕閃現(xiàn)的查詢與分析辨別受查詢環(huán)境和條件的影響很大，因此本條對(duì)磁痕閃現(xiàn)的查詢條件作出了規(guī)矩。 原標(biāo)準(zhǔn)規(guī)矩非熒光磁粉查看時(shí)，工件受檢表面處可見(jiàn)光照度應(yīng)不小于500lx，而本標(biāo)準(zhǔn)提高到1000lx。一同規(guī)矩：當(dāng)現(xiàn)場(chǎng)條件所限無(wú)法滿足時(shí)，可見(jiàn)光照度可以恰當(dāng)下降，但不得低于500lx。 29 復(fù)驗(yàn) 29.1 當(dāng)出現(xiàn)下列情況之一時(shí)，應(yīng)進(jìn)行復(fù)驗(yàn)： a) 查看結(jié)束時(shí)，用標(biāo)準(zhǔn)試片驗(yàn)證查看靈敏度不符合懇求； b) 發(fā)現(xiàn)查看過(guò)程中操作方法有誤； c) 對(duì)查看作用有爭(zhēng)議； d) 有其它需要。 29.2 復(fù)驗(yàn)應(yīng)按第28章的懇求進(jìn)行。 本章保留了原標(biāo)準(zhǔn)的定見(jiàn)。

 

74 （2）工件磁化過(guò)程中,短少平面方向與磁力線筆直時(shí)發(fā)作的漏磁場(chǎng)最強(qiáng),施加磁粉后構(gòu)成的磁痕明顯,跟著其夾角的增大,漏磁場(chǎng)強(qiáng)度隨之削弱,因此僅一個(gè)方向磁化會(huì)構(gòu)成漏檢。一同,磁極端面與受檢表面接觸不良時(shí),將發(fā)作很大漏磁場(chǎng),保證不了受檢表面和近表面滿足的磁場(chǎng)強(qiáng)度,然后下降查看靈敏度。所以本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)矩穿插磁軛四個(gè)磁極端面與受檢表面之間最大空位不跨過(guò)1.5㎜，最大行走速度不跨過(guò)4m/min。 28.3.3 磁懸液的施加應(yīng)符合下列規(guī)矩： a) 磁懸液濃度應(yīng)符合27.3.3的規(guī)矩。 b) 受檢表面先被磁懸液超卓地濕潤(rùn)后，才可施加磁懸液。 c) 磁懸液的施加可選用噴、澆方法，不行選用刷涂法。不管選用哪種方法，均不應(yīng)使查看面上磁懸液的流速過(guò)快。 d) 磁懸液必須在通電時(shí)間內(nèi)施加結(jié)束，通電時(shí)間宜為1～3s。為保證磁化作用應(yīng)起碼重復(fù)磁化兩次，停施磁懸液起碼1s后才可中止磁化。已構(gòu)成的磁痕不得被活動(dòng)著的磁懸液所損壞。 磁懸液對(duì)受檢表面的濕潤(rùn)程度、磁懸液的施加方法與時(shí)機(jī)均對(duì)磁粉查看質(zhì)量影響很大。因此，本標(biāo)準(zhǔn)保留了原標(biāo)準(zhǔn)此有些的規(guī)矩。對(duì)熒光磁懸液的施加次第應(yīng)自上而下進(jìn)行，以防止查詢布景受污染。 28.3.4 磁痕的查詢 磁痕的查詢應(yīng)在磁痕構(gòu)成后立刻進(jìn)行。 a) 非熒光磁粉查看時(shí)，磁痕的查詢應(yīng)在可見(jiàn)光下進(jìn)行，工件受檢表面處可見(jiàn)光照度應(yīng)不小于1000lx；當(dāng)現(xiàn)場(chǎng)選用便攜式設(shè)備查看，因?yàn)闂l件所限無(wú)法滿足時(shí)，可見(jiàn)光照度可以恰當(dāng)下降，但不得低于500lx。 熒光磁粉查看時(shí)，黑光燈的輻照度和波長(zhǎng)應(yīng)滿足27.1.3的懇求。磁痕的查詢應(yīng)在較暗的環(huán)境里進(jìn)行，其可見(jiàn)光照度應(yīng)不大于20lx。 b) 當(dāng)辯認(rèn)纖細(xì)短少磁痕時(shí)，運(yùn)用5～10倍放大鏡進(jìn)行查詢。 磁痕閃現(xiàn)的查詢與分析辨別受查詢環(huán)境和條件的影響很大，因此本條對(duì)磁痕閃現(xiàn)的查詢條件作出了規(guī)矩。 原標(biāo)準(zhǔn)規(guī)矩非熒光磁粉查看時(shí)，工件受檢表面處可見(jiàn)光照度應(yīng)不小于500lx，而本標(biāo)準(zhǔn)提高到1000lx。一同規(guī)矩：當(dāng)現(xiàn)場(chǎng)條件所限無(wú)法滿足時(shí)，可見(jiàn)光照度可以恰當(dāng)下降，但不得低于500lx。 29 復(fù)驗(yàn) 29.1 當(dāng)出現(xiàn)下列情況之一時(shí)，應(yīng)進(jìn)行復(fù)驗(yàn)： a) 查看結(jié)束時(shí)，用標(biāo)準(zhǔn)試片驗(yàn)證查看靈敏度不符合懇求； b) 發(fā)現(xiàn)查看過(guò)程中操作方法有誤； c) 對(duì)查看作用有爭(zhēng)議； d) 有其它需要。 29.2 復(fù)驗(yàn)應(yīng)按第28章的懇求進(jìn)行。 本章保留了原標(biāo)準(zhǔn)的定見(jiàn)。 對(duì)在啥情況下需要復(fù)驗(yàn)和復(fù)驗(yàn)的技術(shù)懇求等都作了清楚的規(guī)矩，使標(biāo)準(zhǔn)愈加完善。 查看結(jié)束時(shí),查看人員運(yùn)用靈敏度試片對(duì)前面的查看作用進(jìn)行驗(yàn)證。當(dāng)電源電壓不堅(jiān)決較大,設(shè)備出現(xiàn)缺陷時(shí),使磁軛提升力下降,致使查看靈敏度下降,驗(yàn)證時(shí)靈敏度試片上的人工缺陷磁痕閃現(xiàn)不清楚或不閃現(xiàn),則應(yīng)對(duì)在此之前的查看部位進(jìn)行復(fù)驗(yàn)。查看人員自個(gè)或被質(zhì)量監(jiān)督人員查看時(shí),發(fā)現(xiàn)其未按本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)矩的操作方法作業(yè),則應(yīng)對(duì)在此之前的一切查看部位進(jìn)行復(fù)驗(yàn)。 30 查驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn) 30.1 磁痕的分類與記載 30.1.1 磁痕的分類 a) 磁痕閃現(xiàn)分為有關(guān)閃現(xiàn)、非有關(guān)閃現(xiàn)、偽閃現(xiàn)。非有關(guān)閃現(xiàn)和偽閃現(xiàn)不作斷定。 1）有關(guān)閃現(xiàn) 由短少發(fā)作的磁痕稱為有關(guān)閃現(xiàn)。 2）非有關(guān)閃現(xiàn)

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